ALS Technology Co., Ltd.

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旋转式开尔文探针系统RKP-1


实现功函数与表面电位的高精度实时测量!

主要用途
金属/半导体洁净表面功函数(费米能级)测量
有机半导体成膜过程中的表面电位实时监测 

产品特点
●高精度旋转电极实现高分辨率测量
●真空兼容:不受大气影响的稳定测量
●突破振动式仪器的局限,实现成膜过程中功函数与表面电位的实时测量
●可评估异质界面能带弯曲及极性分子蒸镀膜的取向极化
●操作简便的测量软件
可采集温度、压力等数据

LEIPS

基本配置
LEIPS


基本规格

项目 规格
旋转电极部外形 宽105mm×深80mm×高75mm
测量基板 测量基板□10mm×20mm(测量部□10mm×10mm)
旋转(参考)电极 材质:SUS-304 双翼(30度×2)转速0〜30[rpm]
用电参数 AC100V 15A
 

选项
●支持真空设备及其他设备的安装与控制
●可导入其他数据至RKP测量数据(如膜厚数据、压力数据等)
●支持定制旋转电极

※RKP-1在国立大学法人千叶大学先进科学中心石井研究室(石井久夫教授、大原正裕博士)的技术指导下实现产品化。

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